اپتو ترمو پلاسمونیک برای الگوسازی بر روی مواد دو بعدی

محققان یک روش لیتوگرافی تمام اپتیکی جدید، که نانولیتوگرافی اپتوترموپلاسمونیک نامیده می شود، برای رسیدن به ظرفیت تولید بالا، انعطاف در ساخت و الگوسازی بدون ماسک از لایه های اتمی مختلف توسعه داده است. به عنوان مثال با استفاده از تک لایه ها گرافین و مولیبدیم دی سولفید، این تیم تحقیقاتی نشان داد که هر دو عمل ترکیب اکسید شدن گرمایی و تصعید در تابش مستقیم نور می تواند منجر به حکاکی مستقیم لایه های اتمی شود

https://dx.doi.org/doi:10.1002/adfm.201803990

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *